Feijoo Guerro, Pedro Carlos pc.feijoo@upm.es

Actividades

Nitridation of Si by N2 electron cyclotron resonance plasma and integration with ScOx deposition

  • Feijoo P
  • Del Prado A
  • Toledano-Luque M
  • San Andŕs E
  • Lucía M

Journal Of The Electrochemical Society - 26/3/2010

10.1149/1.3301726 Ver en origen

  • ISSN 00134651

Scandium oxide deposited by high-pressure sputtering for memory devices: Physical and interfacial properties

  • Feijoo P
  • Del Prado A
  • Toledano-Luque M
  • San Andŕs E
  • Lucía M

Journal Of Applied Physics - 15/4/2010

10.1063/1.3354096 Ver en origen

  • ISSN 00218979

Electrical characterization of high-pressure reactive sputtered ScO x films on silicon

  • LUIS BAILON
  • HELENA CASTAN
  • SALVADOR DUEÑAS
  • PEDRO CARLOS FEIJOO GUERRO
  • HECTOR GARCIA
  • ALFONSO GOMEZ
  • MARIA LUISA LUCIA MULAS
  • ALVARO DEL PRADO MILLAN
  • ENRIQUE SAN ANDRES SERRANO
  • MARIA TOLEDANO LUQUE
... Ver más Contraer

Thin Solid Films (p. 2268-2272) - 31/1/2011

10.1016/j.tsf.2010.10.073 Ver en origen

  • ISSN 00406090

Anomalous thermal oxidation of gadolinium thin films deposited on silicon by high pressure sputtering

  • Pampillon, M. A.
  • Feijoo, P. C.
  • San Andres, E.
  • Lucia, M. L.
  • del Prado, A.
  • Toledano-Luque, M.;

Microelectronic Engineering (p. 2991-2996) - 1/9/2011

10.1016/j.mee.2011.04.058 Ver en origen

  • ISSN 01679317

Optimization of scandium oxide growth by high pressure sputtering on silicon

  • Feijoo, P. C.
  • Pampillon, M. A.
  • San Andres, E.
  • Lucia, M. L.;

Thin Solid Films (p. 81-86) - 30/12/2012

10.1016/j.tsf.2012.11.008 Ver en origen

  • ISSN 00406090

Time-dependent dielectric breakdown on subnanometer EOT nMOS FinFETs

  • Feijoo P
  • Kauerauf T
  • Toledano-Luque M
  • Togo M
  • San Andrés E
  • Groeseneken G

Ieee Transactions On Device And Materials Reliability (p. 166-170) - 1/3/2012

10.1109/tdmr.2011.2180387 Ver en origen

  • ISSN 15304388

Interface quality of Sc2O3 and Gd2O3 films based metal-insulator-silicon structures using Al, Pt, and Ti gates: Effect of buffer layers and scavenging electrodes

  • Gomez, Alfonso
  • Castan, Helena
  • Garcia, Hector
  • Duenas, Salvador
  • Bailon, Luis
  • Angela Pampillon, Maria
  • Carlos Feijoo, Pedro
  • San Andres, Enrique;
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Journal Of Vacuum Science And Technology B: Nanotechnology And Microelectronics - 1/1/2013

10.1116/1.4768678 Ver en origen

  • ISSN 21662746

High pressure sputtering as a viable technique for future high permittivity dielectric on III-V integration: GdOx on InP demonstration

  • Angela Pampillon, Maria
  • Canadilla, Carmina
  • Carlos Feijoo, Pedro
  • San Andres, Enrique
  • del Prado, Alvaro;

Journal Of Vacuum Science And Technology B: Nanotechnology And Microelectronics - 1/1/2013

10.1116/1.4771970 Ver en origen

  • ISSN 21662746

Optimization of in situ plasma oxidation of metallic gadolinium thin films deposited by high pressure sputtering on silicon

  • Angela Pampillon, Maria
  • Carlos Feijoo, Pedro
  • San Andres, Enrique
  • Luisa Lucia, Maria;

Journal Of Vacuum Science And Technology B: Nanotechnology And Microelectronics - 1/1/2013

10.1116/1.4769893 Ver en origen

  • ISSN 21662746

Optimization of gadolinium oxide growth deposited on Si by high pressure sputtering

  • Carlos Feijoo, Pedro
  • Angela Pampillon, Maria
  • San Andres, Enrique;

Journal Of Vacuum Science And Technology B: Nanotechnology And Microelectronics - 1/1/2013

10.1116/1.4766184 Ver en origen

  • ISSN 21662746

Este/a investigador/a no tiene libros.

Este/a investigador/a no tiene capítulos de libro.

Growth of silicon nitride on silicon by electron cyclotron resonance plasma nitridation

  • PEDRO CARLOS FEIJOO GUERRO
  • MARIA LUISA LUCIA MULAS
  • ALVARO DEL PRADO MILLAN
  • ENRIQUE SAN ANDRES SERRANO
  • MARIA TOLEDANO LUQUE

Proceedings Of The 2009 Spanish Conference On Electron Devices, Cde'09 (p. 16-18) - 24/4/2009

10.1109/sced.2009.4800418 Ver en origen

Interfacial properties of HfO2/SiN/Si gate structures

  • AITZANE AMEZAGA
  • PEDRO CARLOS FEIJOO GUERRO
  • MARIA LUISA LUCIA MULAS
  • ALVARO DEL PRADO MILLAN
  • ENRIQUE SAN ANDRES SERRANO
  • MARIA TOLEDANO LUQUE

Proceedings Of The 2009 Spanish Conference On Electron Devices, Cde'09 (p. 23-26) - 24/4/2009

10.1109/sced.2009.4800420 Ver en origen

Electrical characterization of high-pressure reactive sputtered Sc 2O3 films on silicon

  • Castán H
  • Dueñas S
  • Gómez A
  • García H
  • Bailón L
  • Feijoo PC
  • Toledano-Luque M
  • Del Prado A
  • San Andrés E
  • Lucía ML
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Ecs Transactions (p. 287-297) - 1/1/2010

10.1149/1.3375614 Ver en origen

  • ISSN 19386737

Growth of Gadolinium Oxide by Thermal Oxidation of Thin Metallic Gadolinium Layers

  • PEDRO CARLOS FEIJOO GUERRO
  • MARIA LUISA LUCIA MULAS
  • MARIA ANGELA PAMPILLON ARCE
  • ALVARO DEL PRADO MILLAN
  • ENRIQUE SAN ANDRES SERRANO
  • MARIA TOLEDANO LUQUE

17/3/2010

  • iMarina

Positive bias temperature instabilities on sub-nanometere EOT FinFETs

  • Feijoo PC
  • Cho M
  • Togo M
  • San Andrés E
  • Groeseneken G

Microelectronics Reliability (p. 1521-1524) - 3/10/2011

10.1016/j.microrel.2011.06.014 Ver en origen

  • ISSN 00262714

Interface engineering by metal electrode scavenging of Gd2O 3 films sputtered on Si

  • ANTONIO JOSE BLAZQUEZ FERNANDEZ
  • PEDRO CARLOS FEIJOO GUERRO
  • MARIA LUISA LUCIA MULAS
  • MARIA ANGELA PAMPILLON ARCE
  • ALVARO DEL PRADO MILLAN
  • ENRIQUE SAN ANDRES SERRANO
  • MARIA TOLEDANO LUQUE
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Proceedings Of The 8th Spanish Conference On Electron Devices, Cde'2011 - 12/5/2011

10.1109/sced.2011.5744216 Ver en origen

Electrical and chemical characterization of high pressure sputtered scandium oxide for memory applications

  • PEDRO CARLOS FEIJOO GUERRO
  • JOSE LUIS GARCIA FIERRO
  • MARIA LUISA LUCIA MULAS
  • ALVARO DEL PRADO MILLAN
  • ENRIQUE SAN ANDRES SERRANO
  • MARIA TOLEDANO LUQUE

Proceedings Of The 8th Spanish Conference On Electron Devices, Cde'2011 - 12/5/2011

10.1109/sced.2011.5744185 Ver en origen

Towards metal electrode interface scavenging of rare-earth scandates: A Sc2O3 and Gd2O3 study

  • ANTONIO JOSE BLAZQUEZ FERNANDEZ
  • PEDRO CARLOS FEIJOO GUERRO
  • MARIA LUISA LUCIA MULAS
  • MARIA ANGELA PAMPILLON ARCE
  • ALVARO DEL PRADO MILLAN
  • ENRIQUE SAN ANDRES SERRANO
  • MARIA TOLEDANO LUQUE
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Microelectronic Engineering (p. 1357-1360) - 1/7/2011

10.1016/j.mee.2011.03.025 Ver en origen

  • ISSN 01679317

Optimization of Gadolinium Oxide Growth Deposited by High Pressure Sputtering through Scavenging Techniques

  • PEDRO CARLOS FEIJOO GUERRO
  • MARIA ANGELA PAMPILLON ARCE
  • ENRIQUE SAN ANDRES SERRANO

25/6/2012

  • iMarina

High pressure sputtering as a viable technique for future high k on III-V integration: Gd2O3 on InP demonstration.

  • CARMINA CAÑADILLA SOTO
  • PEDRO CARLOS FEIJOO GUERRO
  • MARIA ANGELA PAMPILLON ARCE
  • ALVARO DEL PRADO MILLAN
  • ENRIQUE SAN ANDRES SERRANO

25/6/2012

  • iMarina

Este/a investigador/a no tiene documentos de trabajo.

Este/a investigador/a no tiene informes técnicos.

Nueva generación de dieléctricos de alta permitividad para su aplicación en la puerta de transistores de utilidad en radiofrecuencia

  • Ignacio Mártil de la Plaza (Investigador principal (IP))
  • FEIJOO GUERRO, PEDRO CARLOS (Investigador/a)

Ejecución: 01-01-2007 - 31-12-2010

  • iMarina

Medida a temperatura variable de estructuras de puerta de transistores con dieléctricos de alta permitividad

  • Germán González Díaz (Investigador principal (IP))
  • FEIJOO GUERRO, PEDRO CARLOS (Investigador/a)

Ejecución: 01-01-2008 - 31-12-2008

  • iMarina

Fabricación de dispositivos de efecto campo con dieléctrico de alta permitividad sobre Si y semiconductores III-V para el nodo de 22 nm

  • ENRIQUE SAN ANDRES SERRANO (Investigador principal (IP))
  • FEIJOO GUERRO, PEDRO CARLOS (Investigador/a)

Ejecución: 01-01-2011 - 31-12-2013

Tipo: Nacional

Importe financiado: 213444,00 Euros.

  • iMarina

Dispositivos electrónicos de baja dimensionalidad para aplicaciones de radiofrecuencia y digitales: simulación y desarrollo de software

  • Xavier Oriols (Investigador principal (IP))
  • FEIJOO GUERRO, PEDRO CARLOS (Investigador/a)

Ejecución: 01-01-2013 - 31-12-2015

Tipo: Nacional

Importe financiado: 123201,00 Euros.

  • iMarina

Graphene-Based Revolutions in ICT And Beyond

  • David Jiménez Jiménez (Investigador principal (IP))
  • FEIJOO GUERRO, PEDRO CARLOS (Investigador/a)

Ejecución: 01-10-2013 - 31-12-2015

Importe financiado: 475618,00 Euros.

  • iMarina

Grup de Recerca Consolidat

  • Xavier Aymerich (Investigador principal (IP))
  • FEIJOO GUERRO, PEDRO CARLOS (Investigador/a)

Ejecución: 01-01-2014 - 31-12-2018

Importe financiado: 30000,00 Euros.

  • iMarina

Transporte de electrones y fonones en nanodispositivos para aplicaciones de bajo y cero consumo (ELEPHONT)

  • Xavier Cartoixà Soler
  • Xavier Oriols Pladevall (Investigador principal (IP))
  • FEIJOO GUERRO, PEDRO CARLOS (Investigador/a)

Ejecución: 01-01-2016 - 31-12-2018

Tipo: Nacional

Importe financiado: 116900,00 Euros.

  • iMarina

Graphene-based disruptive technologies (Grephane Core 1)

  • David Jiménez Jiménez (Investigador principal (IP))
  • FEIJOO GUERRO, PEDRO CARLOS (Investigador/a)

Ejecución: 01-01-2016 - 31-12-2018

Importe financiado: 490000,00 Euros.

  • iMarina

Graphene-Based Disruptive Technologies (Graphene Core 2)

  • David Jiménez Jiménez (Investigador principal (IP))
  • FEIJOO GUERRO, PEDRO CARLOS (Investigador/a)

Ejecución: 01-04-2018 - 31-03-2020

Importe financiado: 400000,00 Euros.

  • iMarina

RIS3CAT – Comunitats Emergents

  • David Jiménez Jiménez (Investigador principal (IP))
  • FEIJOO GUERRO, PEDRO CARLOS (Investigador/a)

Ejecución: 01-06-2018 - 30-06-2021

Importe financiado: 175000,00 Euros.

  • iMarina

Este/a investigador/a no tiene tesis dirigidas.

Este/a investigador/a no tiene patentes o licencias de software.

Última actualización de los datos: 5/03/24 19:21